簡(jiǎn)介:
GCIB-10S 離子源系統是一種高性能10千伏氣體團簇離子束,用于快速、低損傷濺射和更高質(zhì)量的表面分析。
GCIB 10S提供了大量有用的功能,包括實(shí)時(shí)集群大小測量和內置樣本電流成像系統,以幫助您充分利用實(shí)驗。
GCIB-10S 離子源系統具有完整的泵送系統和單獨軟件,是一種栓接式升級,將集束束濺射的力量引入現有的真空儀器,如XPS、SEM和SIMS。
主要參數:
主要應用 | 濺射 |
光斑尺寸 | 250 µm |
掃描范圍 | 7.5 x 7.5 mm |
能耗范圍 | 1 – 10 kV |
電流范圍 | 60 nA |
法蘭至機頭長(cháng)度 | 143 mm |
推薦工作距離 | 50 mm |
電源裝置 | 3U x 19’’ rack mountable unit |
電源要求 | 110-240VAC 13A 50/60Hz |
軟件要求 | PC running Windows 10 or later |
集成法蘭規格 | NW 63 CF |
特點(diǎn):
◇ 10kV氬團簇離子源,可選擇Ar1至>Ar3000的團簇;
◇ 實(shí)時(shí)集群測量和調整;
◇ 采樣電流成像;
◇ 光斑尺寸大,掃描范圍寬,可均勻去除材料;
◇ 易于安裝在許多高真空儀器上;
◇ 單獨軟件和基于web套接字的API,用于與第三方軟件集成
應用技術(shù):
GCIB 10S可去除不定碳和其他表面污染,而不會(huì )損壞基材, 同時(shí)還可對有機物和聚合物等軟材料進(jìn)行無(wú)損傷深度剖析。
右圖顯示了分別使用Ar1和Ar2000蝕刻原始PET表面前后的C 1s 峰值。數據清楚地顯示了單原子Ar1束(紅色)造成的化學(xué)損傷,而光譜在暴露于A(yíng)r2000束(藍色)后幾乎保持不變
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