Mono- and Multi-crystalline wafer and brick lifetime measurement device
應用范圍:用于常規質(zhì)量控制、精密材料研發(fā)的單晶和多晶片及晶錠的壽命測量
根據SEMI標準PV9-1110的非接觸式和無(wú)損成像(μPCD / MDP(QSS))、光電導性、電阻率和p/n檢查。
晶圓切割,爐內監控,材料優(yōu)化等。
日常壽命測量,質(zhì)量控制和檢驗
◆產(chǎn)量:>240塊/天或>720片/天
◆測量速度:對于156x156x400mm標準晶錠,<4分鐘
◆生產(chǎn)改善:1mm切割標準為156x156x400mm標準晶錠
◆質(zhì)量控制:用于過(guò)程和材料的質(zhì)量監控,如單晶硅或多晶硅
◆污染測定:起源于爐和設備的金屬(Fe)
◆可靠性:模塊化和堅固耐用的工業(yè)儀器,更高的可靠性和運行時(shí)間> 99%
◆可重復性:> 99.5%
◆電阻率:不需要經(jīng)常校準
精密材料研發(fā)
鐵濃度測定
陷阱濃度測定
硼氧測定
依賴(lài)于注入的測量等
特性
*無(wú)觸點(diǎn)無(wú)破壞的半導體特性
特殊的“表面之下”壽命測量技術(shù)
不可見(jiàn)缺陷的 靈敏度的可視化
自動(dòng)切割標準定義
空間分辨p/n電導型變換檢測
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